2020年国家知识产权局招聘影像二处公告

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　　本次报考国家知识产权局影像二处一级主任科员及以下的考生请注意，国家知识产权局本次招考人数为2人，面试人员比例为5:1.难度来说相对较大，所以想要报考的考生需要多加注意，另外国家知识产权局影像二处一级主任科员及以下需要工作地点在北京市，因此考生一定要多加注意。报名前检查自己是否满足国家知识产权局影像二处一级主任科员及以下的要求。另外，不满足国家知识产权局招聘要求的，可以看看其他省份的国考招聘职位表，河北人事考试网还整理了2020国家公务员考试职位表，供大家参考!（http://he.huatu.com/zt/gkxx/zwb/）

2020年国家知识产权局招聘影像二处一级主任科员及以下公告
招聘部门代码：176000	用人司局：光电技术发明审查部	落户地点：北京市
职位代码：400110013006	机构层级：中央	招考人数：2
政治面貌：不限	招考学历：硕士研究生及以上	面试人员比例：5:1
是否在面试阶段组织专业能力测试：是	服务基层项目工作经历：无限制	工作地点：北京市
招考学位：与最高学历相对应的学位	基层最低年限：无限制	考试类别：省级以上(含副省级)职位
部门名称：国家知识产权局
招考专业： 光学、光学工程、光电信息科学与工程
招考职位：影像二处一级主任科员及以下
备注： 英语六级合格或成绩425分及以上；硕士与本科专业一致；报名、专业科目考试等相关信息请登陆国家知识产权局官方网站http://www.cnipa.gov.cn查询

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